Aktualności
Szczegóły wiadomości
Do domu > Aktualności >
Zastosowania persulfanu sodu w przemyśle elektronicznym
Wydarzenia
Skontaktuj się z nami
Mr. Gerry Wen
86--15982275321
WeChat 15982275321
Skontaktuj się teraz

Zastosowania persulfanu sodu w przemyśle elektronicznym

2025-06-18
Latest company news about Zastosowania persulfanu sodu w przemyśle elektronicznym

Oto przegląd zastosowań nadsiarczanu sodu (Na₂S₂O₈) w przemyśle elektronicznym, opracowany na podstawie źródeł:

⚙️ ‌Kluczowe Zastosowania‌

  1. ‌Produkcja Płyt Obwodów Drukowanych (PCB)‌

    • ‌Środek Trawiący‌: Precyzyjnie usuwa nadmiar miedzi z podłoży, umożliwiając uzyskanie wzorów obwodów o cienkich liniach. Typowe stężenia: roztwory 5–15% w temperaturze 40–60°C.
    • ‌Obróbka Desmear‌: Czyści wywiercone otwory w wielowarstwowych płytkach PCB poprzez utlenianie pozostałości epoksydowych.
  2. ‌Przetwarzanie Półprzewodników‌

    • ‌Czyszczenie Waferów‌: Gatunki o ultra wysokiej czystości (UHP) (>99,99%) usuwają zanieczyszczenia organiczne i pozostałości fotorezystu bez uszkadzania powierzchni krzemowych.
    • ‌CMP Miedzi (Chemiczno-Mechaniczne Wygładzanie)‌: Utlenia warstwy miedzi podczas polerowania w celu uzyskania spłaszczonych powierzchni wafla.
  3. ‌Przygotowanie Powierzchni Metali‌

    • ‌Aktywacja Przed Powlekaniem‌: Mikro-trawienie powierzchni miedzi/mosiądzu w celu zwiększenia przyczepności powłok nikiel/złoto bezprądowych.
    • ‌Czyszczenie Ramek Wyprowadzeniowych‌: Odtlenia wyprowadzenia metalowe przed enkapsulacją w opakowaniach układów scalonych.

⚠️ ‌Krytyczne Parametry Operacyjne‌

‌Parametr‌ ‌Wymaganie‌ ‌Cel‌
‌Czystość‌ ≥99,99% (gatunek dla półprzewodników)613 Zapobiega zanieczyszczeniom jonowym
‌Stężenie‌ 5–20% (zależne od procesu)512 Kontroluje szybkość utleniania
‌Temperatura‌ 30–70°C (zoptymalizowana dla danego zastosowania)6 Przyspiesza kinetykę reakcji
‌Filtracja‌ Usuwanie cząstek 0,1-μm13 Eliminuje zanieczyszczenia powodujące wady

☢️ ‌Uwagi Dotyczące Bezpieczeństwa i Obsługi‌

  • ‌Ryzyko Rozkładu‌: Rozkłada się szybko w temperaturze >65°C, uwalniając tlen i opary kwasu siarkowego; wymaga kąpieli z kontrolowaną temperaturą.
  • ‌Kompatybilność Materiałowa‌: Używać zbiorników PTFE/PVC; unikać kontaktu z aluminium lub cynkiem (katalizuje gwałtowny rozkład).
  • ‌Obróbka Odpadów‌: Pozostałe roztwory muszą być neutralizowane środkami redukującymi (np. wodorosiarczanem sodu) przed utylizacją.

produkty
Szczegóły wiadomości
Zastosowania persulfanu sodu w przemyśle elektronicznym
2025-06-18
Latest company news about Zastosowania persulfanu sodu w przemyśle elektronicznym

Oto przegląd zastosowań nadsiarczanu sodu (Na₂S₂O₈) w przemyśle elektronicznym, opracowany na podstawie źródeł:

⚙️ ‌Kluczowe Zastosowania‌

  1. ‌Produkcja Płyt Obwodów Drukowanych (PCB)‌

    • ‌Środek Trawiący‌: Precyzyjnie usuwa nadmiar miedzi z podłoży, umożliwiając uzyskanie wzorów obwodów o cienkich liniach. Typowe stężenia: roztwory 5–15% w temperaturze 40–60°C.
    • ‌Obróbka Desmear‌: Czyści wywiercone otwory w wielowarstwowych płytkach PCB poprzez utlenianie pozostałości epoksydowych.
  2. ‌Przetwarzanie Półprzewodników‌

    • ‌Czyszczenie Waferów‌: Gatunki o ultra wysokiej czystości (UHP) (>99,99%) usuwają zanieczyszczenia organiczne i pozostałości fotorezystu bez uszkadzania powierzchni krzemowych.
    • ‌CMP Miedzi (Chemiczno-Mechaniczne Wygładzanie)‌: Utlenia warstwy miedzi podczas polerowania w celu uzyskania spłaszczonych powierzchni wafla.
  3. ‌Przygotowanie Powierzchni Metali‌

    • ‌Aktywacja Przed Powlekaniem‌: Mikro-trawienie powierzchni miedzi/mosiądzu w celu zwiększenia przyczepności powłok nikiel/złoto bezprądowych.
    • ‌Czyszczenie Ramek Wyprowadzeniowych‌: Odtlenia wyprowadzenia metalowe przed enkapsulacją w opakowaniach układów scalonych.

⚠️ ‌Krytyczne Parametry Operacyjne‌

‌Parametr‌ ‌Wymaganie‌ ‌Cel‌
‌Czystość‌ ≥99,99% (gatunek dla półprzewodników)613 Zapobiega zanieczyszczeniom jonowym
‌Stężenie‌ 5–20% (zależne od procesu)512 Kontroluje szybkość utleniania
‌Temperatura‌ 30–70°C (zoptymalizowana dla danego zastosowania)6 Przyspiesza kinetykę reakcji
‌Filtracja‌ Usuwanie cząstek 0,1-μm13 Eliminuje zanieczyszczenia powodujące wady

☢️ ‌Uwagi Dotyczące Bezpieczeństwa i Obsługi‌

  • ‌Ryzyko Rozkładu‌: Rozkłada się szybko w temperaturze >65°C, uwalniając tlen i opary kwasu siarkowego; wymaga kąpieli z kontrolowaną temperaturą.
  • ‌Kompatybilność Materiałowa‌: Używać zbiorników PTFE/PVC; unikać kontaktu z aluminium lub cynkiem (katalizuje gwałtowny rozkład).
  • ‌Obróbka Odpadów‌: Pozostałe roztwory muszą być neutralizowane środkami redukującymi (np. wodorosiarczanem sodu) przed utylizacją.

Sitemap |  Polityka prywatności | Chiny dobre. Jakość Persulfany Sprzedawca. 2025 Sichuan Hongjian Xinyi Technology Co., Ltd. Wszystkie. Prawa zastrzeżone.